HT-TLF提拉法晶體生長爐是一種用于生長高質量單晶體的設備，可用于生長Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各種金屬單晶等
HT-TLF提拉法是一種用于生長高質量單晶體的設備，可用于生長Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各種金屬單晶等
產品名稱 | 提拉法晶體生長爐 |
工作電壓 | 輸入電壓：380V ,50HZ，三相 最大輸出功率25KW |
真空腔體 | 304不銹鋼真空腔體 真空腔體尺寸：Φ320*320mm 腔體上有石英窗口，便于觀察材料熔化，種籽晶和長晶過程 |
提拉機構 | 提拉機構次啊用精密伺服電機驅動 控制器控制提拉機構的提拉速度，轉速和轉速 提拉速度：0.4-15mm/hr 提拉干旋轉速度：0.1-23RPM 移動行程：0-250mm 提拉機構可快速移動35mm/min |
真空氣氛 | 真空腔體可抽真空和通入惰性氣氛 真空度：5*10-6torr（采用分子泵系統） 5*10-2torr（采用機械泵） |
控制面板 | 觸摸屏控制面板 可控制提拉速度，提拉行程，籽晶桿轉速和工作溫度 |
服務 | 一年保質期，終身維護（設備相關耗材如O型圈，加熱元件等不在保修范圍內） |
HT-TLF提拉法是一種用于生長高質量單晶體的設備，可用于生長Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各種金屬單晶等
產品名稱 | 提拉法晶體生長爐 |
工作電壓 | 輸入電壓：380V ,50HZ，三相 最大輸出功率25KW |
真空腔體 | 304不銹鋼真空腔體 真空腔體尺寸：Φ320*320mm 腔體上有石英窗口，便于觀察材料熔化，種籽晶和長晶過程 |
提拉機構 | 提拉機構次啊用精密伺服電機驅動 控制器控制提拉機構的提拉速度，轉速和轉速 提拉速度：0.4-15mm/hr 提拉干旋轉速度：0.1-23RPM 移動行程：0-250mm 提拉機構可快速移動35mm/min |
真空氣氛 | 真空腔體可抽真空和通入惰性氣氛 真空度：5*10-6torr（采用分子泵系統） 5*10-2torr（采用機械泵） |
控制面板 | 觸摸屏控制面板 可控制提拉速度，提拉行程，籽晶桿轉速和工作溫度 |
服務 | 一年保質期，終身維護（設備相關耗材如O型圈，加熱元件等不在保修范圍內） |
HT-TLF提拉法是一種用于生長高質量單晶體的設備，可用于生長Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各種金屬單晶等
產品名稱 | 提拉法晶體生長爐 |
工作電壓 | 輸入電壓：380V ,50HZ，三相 最大輸出功率25KW |
真空腔體 | 304不銹鋼真空腔體 真空腔體尺寸：Φ320*320mm 腔體上有石英窗口，便于觀察材料熔化，種籽晶和長晶過程 |
提拉機構 | 提拉機構次啊用精密伺服電機驅動 控制器控制提拉機構的提拉速度，轉速和轉速 提拉速度：0.4-15mm/hr 提拉干旋轉速度：0.1-23RPM 移動行程：0-250mm 提拉機構可快速移動35mm/min |
真空氣氛 | 真空腔體可抽真空和通入惰性氣氛 真空度：5*10-6torr（采用分子泵系統） 5*10-2torr（采用機械泵） |
控制面板 | 觸摸屏控制面板 可控制提拉速度，提拉行程，籽晶桿轉速和工作溫度 |
服務 | 一年保質期，終身維護（設備相關耗材如O型圈，加熱元件等不在保修范圍內） |
HT-TLF提拉法是一種用于生長高質量單晶體的設備，可用于生長Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各種金屬單晶等
產品名稱 | 提拉法晶體生長爐 |
工作電壓 | 輸入電壓：380V ,50HZ，三相 最大輸出功率25KW |
真空腔體 | 304不銹鋼真空腔體 真空腔體尺寸：Φ320*320mm 腔體上有石英窗口，便于觀察材料熔化，種籽晶和長晶過程 |
提拉機構 | 提拉機構次啊用精密伺服電機驅動 控制器控制提拉機構的提拉速度，轉速和轉速 提拉速度：0.4-15mm/hr 提拉干旋轉速度：0.1-23RPM 移動行程：0-250mm 提拉機構可快速移動35mm/min |
真空氣氛 | 真空腔體可抽真空和通入惰性氣氛 真空度：5*10-6torr（采用分子泵系統） 5*10-2torr（采用機械泵） |
控制面板 | 觸摸屏控制面板 可控制提拉速度，提拉行程，籽晶桿轉速和工作溫度 |
服務 | 一年保質期，終身維護（設備相關耗材如O型圈，加熱元件等不在保修范圍內） |
